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等離子光氧一體機分為等離子分解和紫外線光解兩個區，惡臭氣體先經等離子分解區，再經過 UV 紫外線光解區，兩級凈化后達標排出。
等離子光氧一體機是等離子分解廢氣凈化器+UV 光解除臭廢氣凈化器兩種設備的結合，綜合采用了等離子廢氣凈化器和紫外光觸媒除臭廢氣凈化器兩種設備的優點組合而成，利用等離子分解技術和 UV 紫外光解技術相結合，對廢氣和臭氣進行協同凈化處理！它具有運行成本低、設備占地面積小，自重輕、無任何機械動作，無噪音等特點，等離子光解一體機凈化設備凈化效率在95%以上。
等離子光氧一體機工作原理：
當廢氣進入等離子光氧一體機凈化設備內時，先經過等離子體化學反應過程，即電子先從電場獲得能量，通過激發或電離將能量轉移到分子或原子中去，獲得能量的分子或原子被激發，同時有部分分子被電離，從而成為活性基團；之后這些活性基團與分子或原子、活性基團與活性基團之間相互碰撞后生成穩定產物和熱。(在外加電場的作用下，介質放電產生的大量攜能電子轟擊污染物分子，使其電離、解離和激發，然后便引發了一系列復雜的物理、化學反應，使復雜大分子污染物轉變為簡單小分子物質，或使有毒有害物質轉變成無害或低毒低害的物質，從而使污染物得以降解去除。)
然后部分有機廢氣再通過破壞、分解、催化氧化把污染氣體分解為無害無味氣體。采用高能 C 波段光線強裂污染氣體分子鏈，改變物質分子結構，將高分子污染物質裂解、氧化成為低分子無害物質，如水和二氧化碳等。O3 強催化氧化劑進行廢氣催化氧化, 可有效地殺滅細菌，將有毒有害物質破壞且改變成為低分子無害物質。在 C 波段激光刺激催化劑涂層產生活性，強化催化氧化作用。在分解過程中產生高能高臭氧 UV 紫外線光束分解空氣中的氧分子產生游離氧， 即活性氧，因游離氧所攜正負電子不平衡所以需與氧分子結合，進而產生臭氧。UV+O2→O-+O*(活性氧)O+O2→O3(臭氧),眾所周知臭氧對有機物具有極強的 氧化作用，對惡臭氣體及其它刺激性異味有極強的效果。O3 也為強催化氧化劑進行廢氣催化氧化, 裂解惡臭氣體中細菌的分子鍵，破壞細菌的核酸。
光氧廢氣凈化器的特點：除惡臭：能去除揮發性有機物（VOC）、無機物、硫化氫、氨氣、硫醇類等主要污染物，以及各種惡臭味，脫臭效率可達99%以上，脫臭效果大大超過1993年頒布的惡臭污染物排放標準（GB14554-93）和1996年頒布的《大氣污染物綜合排放標準》(GB16297-1996)。無需添加任何物質：只需要設置相應的排風管道和排風動力，使惡臭/工業廢氣通過本設備進行脫臭分解凈化，無需添加任何物質參與化學反應。光氧廢氣凈化器對氣態有機污染物的降解機理：有足夠的能量來產生自由基，引發一系列復雜的物理、化學反應。由臭氧發生器作用引起的氣體有機物化學反應是在氣相中進行的電離、離解、激發、原子和分子間的相互結合及加成反應。這個能量足以使大多數氣態有機物中的化學鍵發生斷裂，從而使其降解。在光催化氧化反應中，通過紫外光照射在納米TiO2光催化劑上產生電子空穴對，與表面吸附的水份（H2O）和氧氣（O2）反應生成氧化性很活波的羥基自由基（OH-）和超氧離子自由基（O2-、0-）。能夠把各種廢臭氣體如醛類、苯類、氨類、氮氧化物、硫化物及其它VOC類有機物、無機物在光催化氧化的作用下還原成二氧化碳（CO2）、水（H2O）以及其它 無害物質,同時具有除臭、消毒、殺菌的功效，由于在光催化氧化反應過程中無任何添加劑，所以不會產生二次污染。該設備核心中的納米光催化觸媒材料（GC-100）是一種吸收光能后，能在其表面產生催化反應的物質，當特定納米波長的紫外光照射光催化觸媒材料（GC-100）時，其表面發生光催化氧化還原反應。光催化觸媒材料（GC-100）吸收光子后在其表面產生電子（E—）和空穴（H+），將吸收的光能轉化成化學能，即具有光催化作用。當光催化觸媒材料（GC-100）與空氣中的水接觸時，表面就吸附H2O、O2、OH—，H2O、 OH—被空穴（H+）所氧化，O2被電子（E—）還原，反應室如下：H2O+ H+ OH. + H+ O2+ E— O2—.OH—基團的氧化能力較強，使有機物氧化，終分解為水和CO2。
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