以下是:活性氧化鋁價格實(shí)惠的廠家的產(chǎn)品參數(shù) 
	
 
產(chǎn)品參數(shù)
產(chǎn)品價格
電議
發(fā)貨期限
電議
供貨總量
電議
運(yùn)費(fèi)說明
電議
ΑL2O3%
≥92
 SiO2%
≤0.10 
 Fe2O3%
≤0.04 
Nα2O%
≤0.45 
灼燒減量%
≤8.0 
松裝密度g/ml
≤0.75
比表面積㎡/g
≥260
孔容ml/g
0.38-0.42 
靜態(tài)吸附容量%
17±1  
吸水率%
≥50
破碎強(qiáng)度N/粒
≥30（1-2mm）
規(guī)格
3-5、2-4、4-6  , 6-8
直徑
1.6-2.5mm
靜態(tài)水吸附
≥%21.5
吸附甲醇量
≥%14 
堆積密度
≥g/ml0.68
抗壓強(qiáng)度
≥N/顆80
磨耗率
≤%0.1
包裝含水量
≤%1.5
	
  
 
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以下是:活性氧化鋁價格實(shí)惠的廠家的圖文介紹 

隨著工業(yè)生產(chǎn)的發(fā)展及城市化建設(shè)的加劇，重金屬的使用范圍越來越廣泛，伴隨而來的嚴(yán)峻問題是水體受到了更加嚴(yán)重的重金屬污染。分子篩具有大量的孔道和空穴，比表面積較大。此外，分子篩干燥劑晶體內(nèi)部的籠內(nèi)充填著陽離子，并且部分硅(鋁)氧四面體的骨架氧帶有負(fù)電荷，因此，在這些離子周圍形成了強(qiáng)大的電場，產(chǎn)生了強(qiáng)大的靜電引力。這些特性使沸石分子篩具有良好的吸附性能，能夠吸附水中的重金屬。

斜發(fā)沸石能對pb(ph在8.0左右)，cd(ph行有效吸附，去除率均能達(dá)到95％以上，當(dāng)有cr(vi)存在時，pb和cd的去除率大大降低，這是由于它們與鉻酸根反應(yīng)形成了化合物，降低了與沸石發(fā)生離子交換的親和力。活性氧化鋁有機(jī)物的存在對沸石吸附重金屬離子的影響不大，因?yàn)榉惺籽ê涂椎来笮∠拗屏擞袡C(jī)物的進(jìn)入。


再生周期，可采用10天左右時間，以再生周期來確定濾料的用量。活性氧化鋁除氟原理一般認(rèn)為就氟離子交換和物理吸附雙重作用，其中起重要作用的是離子交換作用。分子篩有很強(qiáng)的親水性，因?yàn)樵诠I(yè)生產(chǎn)中，有時候氣體的水含量要求控制在很低的水平，這時候活性氧化鋁干燥深度就達(dá)不到要求了，分子篩可以在水含量極低的水平再進(jìn)行吸附，分子篩干燥深度可達(dá)到-70℃。這時候就有一個問題了，既然分子篩的干燥劑深度這么高，為什么我們不直接使用分子篩呢，我們不能這樣理解，分子篩成本較高，有時候沒有那么高的要求話用分子篩會造成不必要的浪費(fèi)。第二就是兩者吸附條件的區(qū)別，活性氧化鋁在氣體水份含量較高的情況下吸水率比分子篩要高很多，同條件下分子篩就沒有活性氧化鋁結(jié)果明顯，這是由分子結(jié)構(gòu)造成的，但是在水份含量很低的水平下需要再降低一個量級，這時候分子篩的吸水率就比活性氧化鋁要強(qiáng)了。



西藏萬江環(huán)保科技有限公司于2017年正式注冊成立，注冊資本300萬元。位于西藏經(jīng)濟(jì)區(qū)，是一家設(shè)計(jì)、生產(chǎn)、銷售 聚丙烯酰胺為一體的制造型企業(yè)。公司現(xiàn)有專業(yè)的設(shè)計(jì)及生產(chǎn)團(tuán)隊(duì)，完善的制作工藝，大幅提高了 聚丙烯酰胺產(chǎn)品的生產(chǎn)效率和質(zhì)量。我們致力于以專業(yè)的制作和完善的質(zhì)量以及售后，滿足廣大客戶要求，歡迎來廠參觀考察！


硫酸鋁再生劑的溶液濃度采用2～3%，硫酸鋁的消耗量可按每去除1g氟化物需60～80g固體硫酸鋁計(jì)算。活性氧化鋁具有較大的比表面積、多種孔隙結(jié)構(gòu)及孔徑分布、豐富的表面性質(zhì)，因此，在吸附劑、催化劑及催化劑載體方面有著廣泛的用途。吸附劑及催化劑載體用氧化鋁是一種精細(xì)化學(xué)品，也是一種專用化學(xué)品。不同用途對物性結(jié)構(gòu)的要求不同，這就是其專用性強(qiáng)、品種牌號多的緣故。據(jù)統(tǒng)計(jì)，用氧化鋁作催化劑及載體的數(shù)量，比分子篩、硅膠、活性炭、硅藻土及硅鋁膠的催化劑總用量還多。由此可見氧化鋁在催化劑及載體中的舉足輕重的地位。其中η-Al2O3和γ-Al2O3又是重要的催化劑及載體，它們都是含有缺陷的尖晶石結(jié)構(gòu)，兩者的區(qū)別是：四面體的晶體結(jié)構(gòu)不同（γ>η），六方層的堆排規(guī)整性不同（γ>η）以及Al—O鍵距不同（η>γ，差值0.05～0.1nm）。

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